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  • STGXC-60-12河南三特STGC-60-12CVD真空管式電阻爐

    河南三特STGC-60-12CVD真空管式電阻爐 CVD管式爐,主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境,可應用于金屬材料、石墨材料、鋰電材料、晶體材料等新材料領域。

    更新日期:2023-11-16
    型號:STGXC-60-12
    廠商性質:生產廠家
  • STGC-60-141400℃-CVD管式爐

    【產品名稱】1400℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1400℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中用來沉積多種材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料。

    更新日期:2023-11-16
    型號:STGC-60-14
    廠商性質:生產廠家
  • STGCT-60-121200℃-CVD梯度管式爐

    【產品名稱】1200℃-CVD梯度管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm+300mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料。

    更新日期:2023-11-16
    型號:STGCT-60-12
    廠商性質:生產廠家
  • STGC-60-171700℃-CVD管式爐

    【產品名稱】1700℃-CVD管式爐 【爐管尺寸】φ25--φ120mm 【加熱區】300mm 【額定溫度】1700℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料。

    更新日期:2023-11-16
    型號:STGC-60-17
    廠商性質:生產廠家
  • STGC-60-121200℃-PECVD管式爐系統

    【產品名稱】1200℃-PECVD管式爐系統 【爐管尺寸】φ40--φ100mm 【加熱區】300mm/440mm 【額定溫度】1200℃ 【控溫精度】±1℃ 【應用領域】PECVD系統(等離子增強化學氣相沉積系統)由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成。

    更新日期:2023-11-16
    型號:STGC-60-12
    廠商性質:生產廠家
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